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材料检测仪器

蔡司场发射扫描电子显微镜Sigma
蔡司场发射扫描电子显微镜Sigma

产品名称:蔡司场发射扫描电子显微镜Sigma

产品型号:360 560

产品品牌:ZEISS蔡司

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蔡司Sigma

拥有高品质成像和先进显微分析功能的FE-SEM

蔡司Sigma系列产品集场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)技术与良好的用户体验于一体,助您轻松实现构建成像和分析程序,同时提高工作效率。您可以将其用于新材料和颗粒的质量监测,或研究生物和地质样本。Sigma可实现高分辨率成像,它采用低电压,能在1 kV或更低电压下实现更高的分辨率和对比度。它出色的EDS几何学设计可执行高级显微分析,以两倍的速度和更高的精度获取分析数据。

使用Sigma系列,畅游高端纳米分析世界。

  • Sigma 360是一款直观的成像和分析FE-SEM,是分析测试平台的理想之选。

  • Sigma 560采用先进的EDS几何学设计,可提供高通量分析,实现自动原位实验。

产品优势

Sigma 360

分析测试平台的理想之选,直观的图像采集

  • 从设置到获取基于人工智能的结果,均提供专业向导,为您保驾护航,助您探索直观成像工作流。

  • 可在1 kV和更低电压下分辨差异,实现更高的分辨率和对比度。

  • 可在极端条件下执行可变压力成像,获得出色的非导体成像结果。

对聚苯乙烯样品进行断裂,以了解聚合物界面处的裂纹形成和附着力。Sigma 360,C2D,3 kV,NanoVP lite模式,样品室压力60Pa。

可在极端条件下完成可变压力成像

用于分析和成像的NanoVP lite模式

  • 新NanoVP lite模式和新探测器很容易在电压低于5 kV时,从非导体中轻松获取高质量数据。

  • 这样,就可增强成像和X射线能谱分析的性能,提供更多表面敏感信息,缩短采集时间,增强入射电子束流,提高能谱面分布分析速度。

  • aBSD1(环形背散射电子探测器)或新一代C2D(级联电流)探测器可确保在低电压条件下采集到出色图像。

将多模式实验与Connect Toolkit相结合,或使用Materials应用程序分析显微结构、晶粒尺寸或涂层厚度

直观成像工作流为您指引方向

从设置到获取基于人工智能的结果,每一步都清晰明了

  • 即使您是新手用户,也能轻松获得专业结果。Sigma系列获取图像迅速,易于学习和使用的工作流可节省培训时间,简化从导航到后期处理的每个步骤,让您如虎添翼。

  • 蔡司SmartSEM Touch中的软件自动化可助您完成导航、参数设置和图像采集等步骤。

  • 接下来,ZEN core便可大显身手:它配备针对具体任务的工具包,适用于后期处理。我们十分推荐人工智能工具包,它可助您基于机器学习进行图像分割。 

可在1 kV和更低电压条件下分辨差异

增强的分辨率。优化的衬度

  • 光学镜筒是成像和分析性能的关键。Sigma配用蔡司Gemini 1电子光学镜筒,可对任何样品提供出色的成像分辨率,尤其是在低电压条件下。

  • Sigma 360的低电压分辨率目前500 V时为1.9 nm。通过大幅度降低色差,1 kV时的分辨率已提升10%以上,可达1.3 nm。

  • 现在成像比以往任何时候都轻松,无论是要求苛刻的样品,还是在可变压力(VP)模式下采用背散射探测。

对聚苯乙烯样品进行断裂,以了解聚合物界面处的裂纹形成和附着力。Sigma 360,C2D,3 kV,NanoVP lite模式,样品室压力60Pa。

可在极端条件下完成可变压力成像

用于分析和成像的NanoVP lite模式

  • 新NanoVP lite模式和新探测器很容易在电压低于5 kV时,从非导体中轻松获取高质量数据。

  • 这样,就可增强成像和X射线能谱分析的性能,提供更多表面敏感信息,缩短采集时间,增强入射电子束流,提高能谱面分布分析速度。

  • aBSD1(环形背散射电子探测器)或新一代C2D(级联电流)探测器可确保在低电压条件下采集到出色图像。

将多模式实验与Connect Toolkit相结合,或使用Materials应用程序分析显微结构、晶粒尺寸或涂层厚度

直观成像工作流为您指引方向

从设置到获取基于人工智能的结果,每一步都清晰明了

  • 即使您是新手用户,也能轻松获得专业结果。Sigma系列获取图像迅速,易于学习和使用的工作流可节省培训时间,简化从导航到后期处理的每个步骤,让您如虎添翼。

  • 蔡司SmartSEM Touch中的软件自动化可助您完成导航、参数设置和图像采集等步骤。

  • 接下来,ZEN core便可大显身手:它配备针对具体任务的工具包,适用于后期处理。我们十分推荐人工智能工具包,它可助您基于机器学习进行图像分割。 

Sigma 560

高通量分析,原位实验自动化

  • 对实体样品进行高效分析:基于SEM的高速和通用分析。

  • 实现原位实验自动化:无人值守测试的全集成实验室。

  • 可在低于1 kV的条件下完成要求苛刻的样品成像:采集完整的样品信息。

可在1 kV和更低电压条件下分辨差异 

  • 在1 kV或甚至在500 V时实现信息量丰富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V时为1.5 nm。
    在新的NanoVP lite模式下,使用新型aBSD或C2D探测器

  • 在可变压力下轻松拍摄要求苛刻的样品,加速电压可低至3 kV。

  • 正在研究电子设备的您肯定希望保持清洁的工作环境。使用等离子清洗仪(强烈推荐)和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱,防止您的样品室受到污染。

氧化铝球体,在500 V表面信息敏感条件下高分辨成像,可以看到烧结颗粒的表面梯度,某些梯度之间的距离仅为3 nm。Sigma 560,500 V,Inlens SE。

对实体样品进行高效分析

EDS:通用、高速,助您深入研究

  • Sigma 560的一流EDS几何学设计可提高分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了即使在低电压小束流条件下,也能实现高通量无阴影元素面分布。

  • 样品室的附加EBSD和WDS端口可进行除EDS外的分析。

  • 不导电样品也可以使用全新的NanoVP lite模式进行分析,并能获得更强的信号和更高的对比度。

  • 全新的aBSD4探测器可轻松实现表面形貌复杂样品的图像采集。

  • 钢原位加热和拉伸实验。同步执行SEM成像和EBSD分析,以深入研究应力应变曲线。

实现原位实验自动化

无人值守测试的全集成实验室

  • Sigma原位实验室是一种全集成式解决方案,它可以不依赖操作人员,通过无人值守的自动化工作流进行加热和拉伸测试。

  • 通过对纳米级别的特征进行3D分析进一步扩展您的工作流:执行3D STEM断层成像或基于人工智能的图像分割。

  • 新aBSD4可实现实时3D表面建模(3DSM)。

以低电压成像的碳纳米管(CNT)。Sigma 560,500 V,Inlens SE探测器。

对要求苛刻的样品能够轻松成像

可在1 kV和更低电压条件下分辨差异 

  • 在1 kV或甚至在500 V时实现信息量丰富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V时为1.5 nm。
    在新的NanoVP lite模式下,使用新型aBSD或C2D探测器

  • 在可变压力下轻松拍摄要求苛刻的样品,加速电压可低至3 kV。

  • 正在研究电子设备的您肯定希望保持清洁的工作环境。使用等离子清洗仪(强烈推荐)和可通过6英寸晶圆的新型大尺寸样品交换舱,防止您的样品室受到污染。

球体,在500 V表面信息敏感条件下高分辨成像,可以看到烧结颗粒的表面梯度,某些梯度之间的距离仅为3 nm。Sigma 560,500 V,Inlens SE。

对实体样品进行高效分析

EDS:通用、高速,助您深入研究 

  • Sigma 560的一流EDS几何学设计可提高分析效率。两个180°径向相对的EDS端口确保了即使在低电压小束流条件下,也能实现高通量无阴影元素面分布。

  • 样品室的附加EBSD和WDS端口可进行除EDS外的分析。

  • 不导电样品也可以使用全新的NanoVP lite模式进行分析,并能获得更强的信号和更高的对比度。

  • 全新的aBSD4探测器可轻松实现表面形貌复杂样品的图像采集。

技术

Gemini电子光学镜筒横截面示意图,包含电子束推进器、Inlens探测器和Gemini物镜。

Gemini 1电子光学系统

  • Gemini 1电子光学系统由三个元件组成:物镜、电子束推进器和Inlens探测器。其中,物镜的设计将静电场与磁场相结合,大大优化光学性能的同时,降低了样品受到的磁场影响。 

  • 如此也可实现对磁性材料等具有挑战性的样品的高品质成像。Inlens探测原理通过对二次电子(SE)和/或背散射电子(BSE)的探测来确保高效的信号检测,同时大幅缩短获取图像的时间。 

  • 电子束推进器保证了小尺寸的电子束斑和高信噪比。

Gemini 1光学镜筒与探测器横截面示意图

以灵活的探测获取清晰图像

  • Sigma配备了一系列不同的探测器,通过新探测技术对您的样品进行表征。 

  • 使用ETSE和Inlens探测器的高真空模式可获取表面形貌的高分辨率信息。

  • 使用VPSE或C2D探测器的可变压力模式可获得清晰图像。 

  • 使用aSTEM探测器可进行高分辨率透射电子成像。

  • 采用不同的可选BSE探测器,如aBSD探测器,可以深入研究样品的成分和表面形貌。

标准VP(左)和NanoVP lite(右)模式,气体分布(粉红色),电子束裙边(绿色)。

NanoVP lite模式

采用NanoVP lite模式进行分析和成像,在低电压条件下可获得更高的图像质量,更快速地获取更准确的分析数据。

  • 在NanoVP lite模式下,裙边效应降低且电子束的气体路径长度(BGPL)减小。裙边减小会提高SE和BSE成像的信噪比。

  • 带有五象限的可伸缩式的环形aBSD可提供出色的材料成分衬度:在NanoVP lite工作过程中,该探测器配备了安装在极靴下方的束流套管,其可提供低电压下的高通量高衬度成分和表面形貌成像,适用于可变压力和高真空条件。

    可选附件

    电镜可选附件用于增强和拓展电子显微镜功能,具体产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域。

    产品类别

    产品名称

    产品简介

    分析设备

    能谱仪

    检测特征X射线能量,称为能量色散谱仪Energy Dispersive Spectroscopy简称能谱仪EDS)。主要是材料微区化学成分进行定性及定量分析,可以用于金属、高分子、陶瓷、混凝土、生物、矿物、纤维等无机或有机固体材料分析等。例如:在扫描电镜下可以结合夹杂物形态成分进行分析;固体材料的表面涂层、镀层进行分析;结合EBSD对未知材料进行相鉴定等

    波谱仪

    利用晶体衍射分光检测感兴趣的特征X射线波长,称为波长色散谱仪(Wavelength Dispersive Spectroscopy)简称波谱仪(WDS。与能谱仪相比,波谱仪能量分辨率高,可以将能量非常接近的谱线区分开同时具有更低的元素检测限,检测最低元素含量至0.1‰。

    背散射电子衍射探测器

    电子背散射衍射(Electron Backscatter Diffraction,简称EBSD技术,是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发形成的衍射菊池带的分析,从而确定晶体结构、取向、晶界类型、微织构组成及应变分布等相关信息,是快速而准确的获得晶体取向信息的强有力的分析工具。EBSD技术可用于各种晶体材料——金属、陶瓷、半导体地质、矿石的分析结合形貌、能谱信息,可以解决在形变、再结晶、相变、断裂、腐蚀过程的问题

    加热台

    扫描电镜高温加热台可以动态地观察温度变化时材料微观组织、结构的变化及失效分析,通入气体可进行高温气体反应的观察,结合EBSD可进行不同温度下原位EBSD实验,用于观察晶体材料的相变过程、再结晶形核及长大过程、晶界处的变化等。Gatan系列的加热台具有温度精度高、稳定性好、结构紧凑、样品座方便拆卸等优点。被广泛应用于液晶检测、半导体、高分子材料、流体包裹体、生物工程等众多领域,在冶金材料领域,结合EBSD进行再结晶及相变过程的观察等。

    冷冻台

    低温氮气制冷样品台模块,可安装在现有的SEM 样品台上。广泛应用于:电子束敏感材料-如高分子、地质样品、低温冷却后可做微量分析;半导体材料及超导材料-研究低温相及性能;阴极发光及EBIC应用。